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首先,硫酸鋇基底的粒度測定是適當?shù)模砑臃稚┦遣贿m當?shù),原料是非常重要的?span lang="EN-US">
其次,鋇的沉淀已經(jīng)很硬,即使在不適當?shù)匿^沉淀下,磨損也是完全不起作用的。拋光只是一種分散過程。涂層中的硫酸鋇通常很低,但其高速分散可能低于。10.微米
第三,從各方法的角度來看,如果硫酸鋇冷卻條件良好,即使電力供應量適當減少,也可以降低精度。達到標準通常需要一次以上的時間。至少80%的非熟練磨料也是精細的原料。部件的兼容性必須得到保證,因為公式不合理。
第四,通常沉淀的硫酸鋇不太成問題,但其方法可以證實該分散體并不薄弱,主要是因為鈣粉是由天然礦物S研磨的,例如,大多數(shù)產(chǎn)品中的許多制造工廠。同時,考慮到硫酸鋇的濕度和分散性,硫酸鋇可能受到過多的水的影響。